Tóm tắt:
Nghiên cứu này trình bày phương pháp thấm các bon bề mặt chi tiết từ thép các bon thấp CT3sử dụng hồ quang plasma và lớp phủ graphit. Lớp phủ graphit gồm thành phần chính là bột graphit và thủy tinh lỏng. Kết quả thí nghiệm cho thấysự thay đổi cấu trúc tế vi và độ cứng theo chiều sâu lớp thấmcác bon. Độ cứng bề mặt chi tiết sau khi thấm các bon đạt 810HV0.2, chiều sâu lớp thấm đạt 200 μm (chế độ micro-melting), và có thể đạt tới 3mm (macro-melting). Ưu điểm của thương pháp thấm các bon này là bề mặt chi tiết không bị nóng chảy hoàn toàn, độ nhám bề mặt Ra = 2-5 μm ở chế độ micro-melting và thời gian thấm các bon chỉ diễn ra trong vài giây.